清洗模塊QW系列在位清洗泵站
用途
該機主要用于制藥工業(yè)固體制劑生產(chǎn)過程中,與濕法混合制粒機沸騰制粒機、包衣機等設備配套使用,以實現(xiàn)其在位清洗功能。同時在制藥、化工、食品等行業(yè)中廣泛使用。
原理
該機由泵站、清洗系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。工作時,將清洗組件對接到配套設備的各清洗點接口,做好清洗的準備。按工藝要求設定清洗程序,確認后按設定的程序清洗設備腔體內(nèi)表面;還可外接高壓水槍,在清洗區(qū)域由人工清洗設備外表面和輔件。清洗過的設備經(jīng)過干燥處理,以備待用。
特點
該機是我司廣泛吸收、消化國外先進技術,結合國情研發(fā)成功的新機型,結構合理,性能穩(wěn)定,操作方便,可以一機多用,減輕勞動強度,優(yōu)化了生產(chǎn)工藝,完全符合藥品生產(chǎn)的GMP要求。